Nanosystem NV-1000白光干涉儀

WSI白光干涉/PSI相位干涉測量檢測設(shè)備，利用白光干涉現(xiàn)象以及干涉信號處理方式，高精度真實還原測量物體的輪廓原貌，解決了測量高精度物體時，只能破壞測量物做切片的難題。

設(shè)備測量應(yīng)用涵蓋晶圓，液晶，等離子顯示板，半導(dǎo)體，透鏡曲率測量，印刷電路板等方面。縱向測量精度高達0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以下，平面測量精度高達到7.4nm以下。其高精度，廣領(lǐng)域度，客戶體驗度，受到了高精制造行業(yè)的喜愛。

設(shè)備原理

WSI白光干涉和PSI相位干涉原理雖然測量原理不同，但是除了使用單頻光和多頻光這一點不同外，使用同樣的光學(xué)和測量系統(tǒng)，因此可以在同一設(shè)備上進行使用。

兩種測量方法共同的特征是利用干涉信號進行處理。干涉信號是從任意光源同時出發(fā)的兩束光通過不同的光路后疊加時，根據(jù)兩束光的光路距離差產(chǎn)生明暗相間的物理現(xiàn)象。WSI/PSI設(shè)備正是使用了以上原理進行測量。

WSI測量原理

WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征

-在掃描范圍內(nèi)持續(xù)掃描后進行測量。

-在允許掃描的范圍內(nèi)可以測量高度。

PSI測量原理

PSI（Phase ShiftingInterferometry）測量原理

PSI的特征

-中心波長（大約600nm）的1/4為間隔，進行4回掃描后測量。

-與掃描范圍無關(guān)，只能測量250nm以下的高度。

Nanosystem NV-1000白光干涉儀技術(shù)參數(shù)：

干涉物鏡：單透鏡可選

掃描范圍：0-180um（270um可選）

垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

傾斜臺：±3°

Z軸行程：30mm（手動）

工作臺面：50X50mm（手動）